AMC (Airborne Molecular Contamination) 분석지원

• Airborne contamination은 반도체나 Display 산업과 같은 첨단제품 생산에서 관심이 커지고 있으며, 이들을 제어하기 위해 HEPA, ULFA, CHEMICAL, CARBON FILTER등 목적에 따라 다양한 방법을 적용하고 있다.

  Metallic, Ionic(음이온과 양이온)등의 오염된 환경(공기)은 생산수율을 떨어뜨리는 가장 흔한 요인이며, 이런 종류의 오염을 AMC로 SEMI F21-95에 분류되어 있고 아래와 같은 문제점을 발생시킨다.

• - Scanner등의 Optic, Photomask, Wafer등에 대한 Haze
• - Film이나 Particle 형태로 존재하여 접착력 약화, 습기, 전기적 합선 또는 누전 그리고 Gate Oxide의 특성 저하
• - Lithography defect
• - Counter doping
• - Instrument, Wiring, Hard drive disk와 Head, Substrate등의 부식
• 검출한계는 성분에 따라 약간의 차이는 있지만 일반적으로 0.5~0.005ng/L Air수준이며, IC는 아래와 같다.