시료는 반도체 관련제품, 부품 및 소재류 모두를 포함합니다. Si-Wafer, 소자류, 부품류, 가스류 반도체용 극초순수 세정용 약품류, 식각액, 현상액, 용제류 및 포장재 등을 포함합니다.
분석내용
화학분석 종합지원
- - 극미량 오염관리에 필요한 화학분석
- - Sub-ppt 수준의 극미량 화학분석
- - 농축, 추출, 분해 등 전처리 기술
- - 시료채취 기술
- - 이온성 오염물 분석
- - 유기 오염물 분석
- - 초순수 분석(Metal:<sub-ppt, ION:<0.5ppb)
- - 반도체소재와 부품의 극미량 오염물 분석
지원분야
- - 반도체 관련 부품/소재 일반
- - 반도체용 Chemical
- - Silicon Wafer
- - 생산공정 오염관리
- - 초순수 오염관리
- - Gas 오염관리
- - Clean Room Air 등 Environment
- - DRAM, TFT-LCD, 유기EL등
검출원소
| 10 elements | Li, Na, Al, K, Ca, Cr, Fe, Ni, Cu, Zn |
|---|---|
| 20 elements | Li, Be, B, Na, Mg, Al, K, Ca, Ti, Cr, Mn, Fe, Ni, Cu, Zn, Cd, Sn, Ba, Au, Pb |
| 40 elements | Li, Be, B, Na, Al, K, Ca, Sc, Ti, V, Cr, Mn, Fe, Co, Ni, Cu, Zn, Ga, Ge, As, Rb, Sr, Zr, Nb, Mo, Rh, Ag, Cd, Sn, Sb, Cs, Ba, Ta, W, Pt, Au, Tl, Pb, Bi |
시설 및 기술
- - 극미량화학분석용 전처리 실험실
- - 극초순수 제조설비
- - 각종 시료 전처리 기구
- - 극미량 ICP-MS 운영기술
- - 극미량 GC-MS 운영기술
- - 전처리기술 (농축, 추출, 분해)
| 기기명 | 용도 |
|---|---|
| ICP-MS | Trace Metals DIW, Chemicals, Si wafer 기타부품/소재 |
| GFAAS | Trace Metals Chemicals, Si wafer |
| IC | Trace Cation & Anions DIW, Chemicals, Si wafer, Clean Room Air |
| GC-MS | VOC, Si Wafer Clean Room Air, 기타 부품/소재 |
| 최고의 검출능력 | Metal ( < sub-ppt), ION ( < 0.5ppb), Organic (pg~mg) |
|---|---|
| 정확하고 값진 데이터 | 필요한 경우 무료 재실험, 회수율 검증 및 표준기준물 검증을 통한 신뢰성을 확인하며 분석작업에서 얻어진 모든 유용한 정보를 제공 |
| 경제적인 분석비용 | 자체개발기술, 시약, 설비, 장비, 용기 사용 |
| Sampling | 전국 어느 곳이나 Sampling 가능, 고객이 원하는 경우 직접 채취에 필요한 용기 및 Manual 제공 |